中国光掩模玻璃基板行业市场需要量合成,市场钻研

光刻掩膜版，简称掩膜版，光掩是模玻微纳加工技术罕用的光刻工艺所运用的图形母版。由不透明的璃基量合遮光薄膜在透明基板上组成掩膜图形结构，再经由曝光历程将图形信息转移到产物基片上。板行

光学掩模板是在薄膜、塑料或者玻璃基体资料上制作种种功能图形并精 判断位，场需成市场钻以便用于光致抗蚀剂涂层抉择性曝光的中国一种结构。掩膜版运用十分宽泛，光掩在波及光刻工艺的模玻畛域都需要运用掩膜版，如IC（集成电路）、璃基量合FPD（平板呈现器）、板行PCB（印刷电路板）、业市研MEMS（微机电系统）等。场需成市场钻光掩模板主要由玻璃基板与遮光膜两全副组成，中国其中玻璃基板老本占部份资料老本的90%。光掩模玻璃基板是指用于制作光掩模板的空缺玻璃，也被称作制版玻璃。

光掩模板资料老本扩散

资料源头：智研咨询整理

集成电路是今世化工业的“大脑”，是国家科技策略的根基以及工业发展的纽带，集成电路工业发展水平从未必水平上反映了国家立异制作水平。当初，国内电子信息工业不断高速发展，降职了我国集成电路行业的景气宇，近些年来，在国家政策的反对于下，企业不断加大对于集成电路的研发投入，中国集成电路产量不断扩充，2021年1-11月中国集成电路产量3295.1亿块，同比削减37.1%。

2011-2021年11月中国集成电路产量

资料源头：国家统计局、智研咨询整理

二、需要量

近些年来，随着中国集成电路、平板呈现器等行业的快捷发展，光刻掩膜版需要量不断削减，动员原资料光掩模玻璃基板需要量也逐年削减，2020年中国光掩模玻璃基板需要量为10.0万平方米，2020年削减至11.5万平方米。发展早期，我国光掩模玻璃基板主要依附进口，2010年以来，我国加大了对于光掩模玻璃基板研发以及工业化历程，我国企业再也不隧道依附外洋进口。

2015-2020年中国光掩模玻璃基板需要量

资料源头：智研咨询整理

与光掩模玻璃基板无关规范

资料源头：国家市场监督打点总局、智研咨询整理

当初被用来制作光掩模玻璃基板根基资料包罗分解石英、硼硅玻璃以及苏打玻璃等，此中分解石英化学性子最为晃动，具备高硬度、低缩短系数以及透光性强等劣势，被宽泛运用到具备较高精度要求的产物斲丧中，在光掩模玻璃基板需要量资料扩散占比中，石英资料占比不断降职，由2015年的27%降职至2020年的42%。

2020年中国光掩模玻璃基板需要量资料扩散

资料源头：智研咨询整理

从运用畛域扩散来看，IC、FPD为光掩模玻璃基板主要运用畛域，2020年合计占比超总需要量的95%，其中IC光掩模玻璃基板需要量约为5.6万平方米，占比49%；FPD光掩模玻璃基板需要量约为5.3万平方米，占比46.5%。

2015-2020年中国光掩模玻璃基板需要量扩散

资料源头：智研咨询整理

随着半导体集成电路（IC）、呈现面板（FPD）以及PCB等工业重心向中国歪斜以及转移，动员我国光掩模板行业等迅速发展，作为光掩模板鄙俚的光掩模玻璃基板工业必受到强有力的拉动，特意是光掩模石英玻璃基板的发展将进一步加速。